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原子层沉积（ALD）技术作为一种面向纳米和亚纳米薄膜以及纳米颗粒的制备技术，具有精确的原子层级厚度调控能力、极好的共形生长特性、近乎化学计量比的化学组成，以及较低的生长温度，现已被广泛应用于微电子、光电子、催化、能源、光学涂层、抗腐蚀层、生物医用材料等多个领域。为了进一步推进我国的ALD技术应用和设备产业化，做大做强相关产业，特举办第十二届中国原子层沉积会议，为广大专家、学者和企业提供成果分享和技术交流的平台。会议将于2026年07月24日至26日在中国昆明举行，会议将包括邀请报告和墙报汇报。 会议主题
我司荣幸受邀出席第十二届中国原子层沉积会议（C-ALD 2026），设立专属展示展位，诚挚恭候行业同仁莅临。 时间：2026-07-08
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